改用Gate-Last，IBM展示業界首塊20nm工藝晶圓

VIRGOS

　　在Common Platform 2011技術大會上，IBM展示了其業界首塊採用20nm工藝的晶圓。據稱該晶圓不但使用了20nm LP HKMG製造工藝，還採用了Gate-Last技術。

　　IBM方面並沒有透漏該塊晶圓將用於製作何種晶片。據我們所知，英特爾從45nm工藝開始就堅持使用Gate-Last技術，台積電亦決定從28nm開始引入。而IBM在32nm/28nm工藝及之前一直堅持使用Gate-First，直至現在20nm工藝卻進行了大轉折改用了Gate-Last，至於實際原因我們就不得而知了。

　　Gate-Last(後柵極)、Gate-First(前柵極)是實現HKMG結構晶體管的兩大技術流派，它們的主要在於矽晶片漏/源區離子注入、高溫退火和金屬柵極形成的先後，其中Gate-Last指的就是先完成前兩步後再進行金屬柵極形成的操作。
消息來源：[SemiAccurate]