台積電強調：450mm晶圓和EUV技術很重要

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　　在半導體晶片代工產業，台積電毫無疑問是老大，他們對半導體技術的追求絶對補遜色於IBM、英特爾等企業。有來自Xbit-labs的消息指出，日前台積電再度強調，450mm晶圓以及EUV光刻技術非常重要，就算10nm製程產品用不上，也是發展7nm製程必須用上的。
　　根據台積電的安排，他們將在2016年到2017試產450mm晶圓，而2018年則進入商業化生產。至於對應的製程工藝則應該為解釋已經較為成熟的10nm或者是剛剛進入生產階段的7nm。
　　至於EUV光刻技術，按照ASML目前已經試產6台的NXE:3100 EUV光刻系統的來說，使用11W光源則每小時最多產出7塊晶圓。同時有實驗數據證明，如果可以換成採用30W光源的NXE:3300B系統的話，每小時最高的晶圓產量將提升至18塊。而ASML的目標則是實現105W光源下每小時69塊晶圓，並在2014年投入商用。
　　台積電老大張忠謀表示，EUV光刻技術以及450mm晶圓對降低產品成本有很大作用，就算10nm工藝用不上，也必須在7nm製程中使用。而按照目前業界的消息來看，英特爾已經計畫在10nm工藝中引進450mm晶圓，想來台積電也不會落後多少。